Николай Шелепин: «Только симбиоз науки и промышленности даст толчок развитию технологий»

О работе секции «Технологии и компоненты микро- и наноэлектроники» рассказал первый заместитель генерального директора АО «НИИМЭ», доктор технических наук, профессор кафедры интегральной электроники и микросистем НИУ МИЭТ Николай Шелепин.

- Николай Алексеевич, как образовалась Ваша секция?

- Секция существует с первого года работы конференции «Микроэлектроника – ЭКБ и электронные модули» и организована по моей инициативе. На секции обсуждаются вопросы технологических процессов, вопросы интеграции технологических процессов в технологию изготовления интегральных схем; вопросы проектирования, создания, изготовления и исследования элементной базы включая все ее характеристики, в том числе и при спецвоздействиях. Стоит отметить, что часть докладов посвящена тому, какие работы уже воплощены и сделаны, в том числе и создание радиационно-стойкой ЭКБ, пригодной для работы в условиях космического пространства; новые технологии ЭКБ, реализованные в АО «НИИМЭ». Также представлены разработки, направленные на перспективу.

Процесс внедрения новых технологий с известным темпом правила Мура в настоящее время замедлился. Технологии стали сложными и дорогими. Тем не менее самыми передовыми компаниями, и в первую очередь Intel, заявлено строительство заводов и перспективное создание технологий на уровне 7-8 нм. Однако, стоит отметить, что само понятие «технологический уровень» претерпело достаточно приличные изменения, о чем я буду говорить в своем докладе.

- Николай Алексеевич, сложно быть модератором? Какие у Вас обязанности?

- С одной стороны, самые простые – руководить этой секцией. С другой стороны, – выбрать наиболее значимые доклады для заслушивания на конференции.

Работа на конференции в секции строится следующим образом: доклад – вопросы. Но если случается, что чей-то доклад вызвал активную дискуссию и им все заинтересовываются, то всегда есть возможность вынести этот доклад на круглый стол и продолжить обсуждение. Стоит отметить, что у нас всегда на месте происходит обсуждение доклада в виде вопросов, дебатов, мнений, как и принято обычно на конференциях.

- Какие интересные и полезные доклады были сделаны в прошлые годы? Есть практический результат?

- Примерно 50% докладов делаются о практических разработках. Еще 50% – это главным образом теоретические доклады сотрудников университетов и научно-исследовательских учреждений. Доклады проходят определенный отбор. Количество докладов секции ограничено временными рамками, обычно это 14-16 очных докладов, еще есть стендовые и заочные доклады.

К сожалению, в настоящее время хорошей исследовательской базы в университетах нет, и хорошие экспериментальные данные исследований университеты получают только в том случае, когда они плотно взаимодействуют с предприятиями.

Должен заметить, что в результате проектов с Минобрнауки таких проектов в последние годы заметно увеличилось. Есть много работ, в которых промышленные предприятия выступали индустриальными партнерами и вели совместные разработки с университетами. Например, в этом году, в секции, есть доклады МФТИ, основанные на самых передовых разработках системы энергонезависимой памяти, полученной благодаря проведенной единой работе с АО «НИИМЭ» и ПАО «Микрон».

- Какие сложности возникают при определении актуальной темы секции и в подборе докладчиков?

- Одна из больших сложностей в том, что работа по элементной базе и по развитию технологий передового уровня пока что в России базируются только на технологическом оборудовании ПАО «Микрон». Соответственно, это активно исследуется и изучается только в Зеленограде. Но тем не менее, на секции есть докладчики из Санкт-Петербурга, Москвы и других городов России.

- Николай Алексеевич, какие доклады предприятий и НИИ можете особо отметить?

- Естественным образом, значимые доклады, работающие по самым передовым исследованиям в области технологии, осуществляют молодые сотрудники НИИ молекулярной электроники. Также заслуживает внимание совместный доклад МФТИ – Анны Георгиевны Черниковой по разработке сегнетоэлектрической памяти на основе оксида гафния, а так же исследования, возникшие в результате совместной работы АО «НИИМЭ» и АО «ЭНПО СПЭЛС». Нельзя обойти вниманием доклад доктора технических наук, профессора НИУ МИЭТ Шевякова Василия Ивановича по контактной системе металлизации для глубоких субмикронных СБИС («Вольфрам, легированный титаном, как перспективный материал межсоединений теплоустойчивых кремниевых ИС»). Отдельно хочу обратить внимание на практическую разработку, используемую в больших количествах и в уже действующих проектах, реализованных в Российской Федерации – это совместная разработка и совместная эксплуатация НИИМЭ и АО НПЦ «ЭЛВИС» - «Библиотека элементов и СФ-блоков для проектирования радиационно-стойких КМОП СБИС по российским технологиям объемного кремния 180 и 90 нм». С точки зрения перспективных исследований, можно отметить доклад из ФТИАН о процессах криогенного травления кремния.

- Николай Алексеевич, уже ознакомились с тезисами? Можно ли говорить о новых открытиях и прорывах в российской микроэлектронике?

- Тезисы уже опубликованы, темы и доклады достаточно интересны. Надеюсь, работа секции будет достаточно интересной и содержательной. Что касается тех, кто не успел подать заявку, советую не сомневаться, а уже регистрироваться на следующую конференцию 2018 года.

- Спасибо!

Международный форум «Микроэлектроника-2017»